特許

J-GLOBAL ID：200903008488781339

8-ヒドロキシアデニン誘導体の新規製造法

発明者： 廣田 耕作 ,  佐治木 弘尚
出願人/特許権者： 住友製薬株式会社 ,  株式会社ジャパンエナジー
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-353875
公開番号（公開出願番号）：特開2000-159767
出願日： 1998年11月26日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】 8-ヒドロキシアデニン誘導体の新規製造法の提供。【解決手段】 式(3)【化1】[式中、R1は低級アルキル基、置換低級アルキル基、アルアルキル基、置換アルアルキル基、アリール基または置換アリール基を意味する。]で表される化合物と、式(4)[式中、Xは低級アルキル基、置換低級アルキル基、アリール基、置換アリール基、アミノ基または水酸基を意味する。]で表される化合物または式(5)R2-NCS (5)[式中、R2はアシル基を意味する。]で表される化合物を不活性溶媒中反応させることにより、式(6)[式中、Yは低級アルキル基、置換低級アルキル基、アリール基、置換アリール基、アミノ基、水酸基またはメルカプト基を意味する。]で表される化合物を製造する方法。

請求項（抜粋）：

式(1)【化1】で表されるアミノマロノニトリルと、下記式(2)R1-NCO (2)[式中、R1は低級アルキル基、置換低級アルキル基、アラルキル基、置換アラルキル基、アリール基または置換アリール基を意味する。]で表される化合物を不活性溶媒中、加熱閉環させることを特徴とする下記式(3)【化2】[式中、R1は前掲と同じ。]で表される化合物の製造法。

IPC (5件)：

C07D473/24 ,  C07D233/90 ,  C07D473/16 ,  C07D473/18 ,  C07D473/34 301

FI (5件)：

C07D473/24 ,  C07D233/90 A ,  C07D473/16 ,  C07D473/18 ,  C07D473/34 301