特許

J-GLOBAL ID：200903008509230338

荷電ビーム描画方法及び描画装置

発明者： 阿部 隆幸 ,  大木 進 ,  上久保 貴司 ,  安瀬 博人
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-019396
公開番号（公開出願番号）：特開平9-289164
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】【課題】 近似解の方法と同程度のオーダの計算スピードで、行列法にせまる正確さの実用的精度を与える。【解決手段】 試料上に電子ビームを照射して所望パターンを描画するに先立ち、描画すべきパターン内の各位置毎に最適照射量を求め、この最適照射量で各パターンを描画する電子ビーム描画方法において、(ア)試料に対する近似的最適照射量を求め、(イ)前の工程までで求められた近似的最適照射量(x,y)で露光した際に生じる感光量の誤差に、場所によって変動する後方散乱電子による露光量U(x,y)を含む調整係数をかけ、これを近似的最適照射量に対する修正量di とし、先の近似的最適照射量に加えたものを新たな近似的最適照射量とし、(ウ)(イ)の工程を近似的最適照射量が収束するまで繰返す。

請求項（抜粋）：

試料上に荷電ビームを照射して所望パターンを描画するに先立ち、描画すべきパターン内の各位置毎に最適照射量を求め、この最適照射量で各パターンを描画する荷電ビーム描画方法において、前記試料に対する近似的最適照射量を求める第1の工程と、前の工程までで求められた近似的最適照射量で露光した際に生じる感光量の誤差に、場所(x,y)によって変動する後方散乱粒子による露光量U(x,y)程度の量を含む調整係数をかけ、これを近似的最適照射量に対する修正量di とし、先の近似的最適照射量に加えたものを新たな近似的最適照射量とする第2の工程と、第2の工程を所定回数、近似的最適照射量が収束するまで、又は得られた近似的最適照射量の持つ誤差が全て所定の数値内に抑えられるまで繰返す第3の工程と、を含むことを特徴とする荷電ビーム描画方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504

FI (2件)：

H01L 21/30 541 M ,  G03F 7/20 504

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 荷電粒子線露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-353279   出願人：日本電気株式会社
• 特開平3-225816
  
• 特開平1-270317
  
• 特開平2-130815