特許
J-GLOBAL ID:200903008525543702

多孔質ハニカム構造体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人あいち国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-320699
公開番号(公開出願番号):特開2009-262125
出願日: 2008年12月17日
公開日(公表日): 2009年11月12日
要約:
【課題】微粒子(パティキュレート)等の捕集効率が高く、かつ細孔の目詰まりによる圧力損失の増大を防止することができる多孔質ハニカム構造体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】ハニカム状のセル壁2とセル壁3に囲まれた多数のセル3とを有する多孔質のハニカム構造体1である。化学組成がSiO2:45〜55重量%、Al2O3:33〜42重量%、MgO:12〜18重量%よりなるコーディエライトを主成分とする。細孔分布は、細孔径5μm以下の細孔容積が全細孔容積の15%未満であり、細孔径25μmを超える細孔容積が全細孔容積の10%未満である。多孔質ハニカム構造体1は、気孔率が40〜60%であることが好ましい。多孔質ハニカム構造体1は、40〜800°Cにおける熱膨張係数が0.7×10-6/°C以下であることが好ましい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ハニカム状のセル壁と該セル壁に囲まれた多数のセルとを有する多孔質のハニカム構造体であって、 上記セル壁は、化学組成がSiO2:45〜55重量%、Al2O3:33〜42重量%、MgO:12〜18重量%よりなるコーディエライトを主成分とし、 上記セル壁中に形成された細孔の分布は、細孔径5μm以下の細孔容積が全細孔容積の15%未満であり、細孔径25μmを超える細孔容積が全細孔容積の10%未満であることを特徴とする多孔質ハニカム構造体。
IPC (7件):
B01D 39/20 ,  B01J 35/04 ,  B01J 35/10 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94 ,  C04B 35/195 ,  F01N 3/02
FI (9件):
B01D39/20 D ,  B01J35/04 301P ,  B01J35/04 301K ,  B01J35/04 301N ,  B01J35/10 301F ,  B01D53/36 C ,  B01D53/36 103C ,  C04B35/16 A ,  F01N3/02 301C
Fターム (73件):
3G090AA02 ,  3G090BA01 ,  4D019AA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019BC07 ,  4D019BD01 ,  4D019CA01 ,  4D019CB04 ,  4D019CB06 ,  4D048AA14 ,  4D048BA01X ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048BB02 ,  4D048BB17 ,  4G030AA07 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030BA23 ,  4G030BA24 ,  4G030BA34 ,  4G030CA01 ,  4G030CA10 ,  4G030GA09 ,  4G030GA11 ,  4G030GA14 ,  4G030GA16 ,  4G030HA02 ,  4G030HA08 ,  4G169AA01 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA06A ,  4G169BA06B ,  4G169BA13A ,  4G169BA13B ,  4G169BB05A ,  4G169BB05C ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC10A ,  4G169BC10B ,  4G169BC16A ,  4G169BC16B ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169CA03 ,  4G169CA18 ,  4G169EA04X ,  4G169EA18 ,  4G169EB12X ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169EC06X ,  4G169EC06Y ,  4G169EC09X ,  4G169EC09Y ,  4G169EC18X ,  4G169EC18Y ,  4G169ED03 ,  4G169ED06 ,  4G169FA01 ,  4G169FB30 ,  4G169FB67 ,  4G169FB78 ,  4G169FC02 ,  4G169FC08
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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