特許
J-GLOBAL ID：200903008543149477
薄膜形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-249229
公開番号（公開出願番号）：特開平10-076206
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：
【要約】【課題】 基板にそりが発生した場合でも、均一な厚さの薄膜を形成できる薄膜形装置を提供することにある。【解決手段】 半導体基板2をその幅方向両側縁部を搬送ローラ群5により支持しつつ直線的に搬送し、これにより構成される搬送路の途中に基板2の幅方向に亘って液処理用支持ローラ8を設ける。そして、液処理用支持ローラ8に支持された基板2を、液処理用支持ローラ8の周面に設けた吸引孔11を介して内部から吸引しつつ、その基板2上に処理液供給ノズル3から処理液4を帯状に吐出する。
請求項（抜粋）：
基板を支持しつつ直線的に搬送する搬送ローラと、この搬送ローラにより構成される搬送路の途中に設けられ基板をその幅方向に亘って支持する液処理用支持ローラと、この液処理用支持ローラの上方に設けられ、液処理用支持ローラに支持された基板部分上に処理液を供給する処理液供給ノズルとを具備することを特徴とする薄膜形成装置。
引用特許：
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