表示装置およびその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-055161
公開番号（公開出願番号）：特開2001-242443
出願日： 2000年03月01日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【課題】透過型表示装置の遮光性及び配向性を同時に改善する。【解決手段】表示装置は、基板11上に画素電極31の駆動用の薄膜トランジスタが設けられ、この薄膜トランジスタの上層でかつ画素電極31の下層の位置に導電性の遮光層27,28が設けられている。第一の平坦化膜25が薄膜トランジスタの凹凸を埋める様に形成されており、その平坦化された表面に遮光層27,28が配されている。第二の平坦化膜29が遮光層27,28の段差を埋める様に形成されており、その平坦化された表面に画素電極31が配されている。導電性の遮光層27,28を上下から絶縁性の平坦化膜29,25で挟み込む構造を採用することで、透過型表示装置の遮光性及び配向性を改善することが可能である。

請求項（抜粋）：

基板上に画素電極の駆動用の薄膜トランジスタが設けられ、この薄膜トランジスタの上層でかつ上記画素電極の下層の位置に導電性の遮光層が設けられている表示装置において、第一の平坦化膜が該薄膜トランジスタの凹凸を埋める様に形成されており、その平坦化された表面に該遮光層が配され、第二の平坦化膜が該遮光層の段差を埋める様に形成されており、その平坦化された表面に該画素電極が配されていることを特徴とする表示装置。

IPC (7件)：

G02F 1/1333 505 , G02F 1/1335 500 , G02F 1/1368 , G09F 9/30 338 , G09F 9/35 , H01L 29/786 , H01L 21/336

FI (7件)：

G02F 1/1333 505 , G02F 1/1335 500 , G09F 9/30 338 , G09F 9/35 , G02F 1/136 500 , H01L 29/78 619 B , H01L 29/78 627 A

Fターム (70件)：

2H090HA07 , 2H090HB07X , 2H090HD03 , 2H090LA04 , 2H091FA34Y , 2H091GA13 , 2H091GA16 , 2H091LA30 , 2H092GA29 , 2H092JA24 , 2H092JA34 , 2H092JA46 , 2H092JB52 , 2H092JB58 , 2H092KA04 , 2H092KA05 , 2H092KA10 , 2H092KB15 , 2H092MA05 , 2H092MA07 , 2H092MA10 , 2H092MA27 , 2H092NA04 , 2H092NA19 , 2H092NA29 , 5C094AA09 , 5C094AA16 , 5C094BA03 , 5C094BA43 , 5C094CA19 , 5C094EA04 , 5C094EB02 , 5C094ED15 , 5C094FB12 , 5C094FB15 , 5C094GA10 , 5F110AA18 , 5F110AA30 , 5F110BB02 , 5F110CC02 , 5F110DD03 , 5F110DD13 , 5F110EE05 , 5F110EE09 , 5F110FF02 , 5F110FF29 , 5F110GG02 , 5F110GG13 , 5F110GG44 , 5F110HL03 , 5F110HL05 , 5F110HL12 , 5F110NN03 , 5F110NN04 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN25 , 5F110NN35 , 5F110NN36 , 5F110NN42 , 5F110NN44 , 5F110NN45 , 5F110NN46 , 5F110NN48 , 5F110NN54 , 5F110NN72 , 5F110NN73 , 5F110QQ11 , 5F110QQ19 , 5F110QQ23

引用特許：

審査官引用 (2件)

反射型液晶表示装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-108676 出願人：シャープ株式会社
電気光学装置およびその作製方法並びに電子機器
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-344403 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

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