特許

J-GLOBAL ID：200903008593536919

イオンビーム照射装置

発明者： 松田 耕自 ,  笹村 義孝
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-176707
公開番号（公開出願番号）：特開平11-354066
出願日： 1998年06月09日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 イオンビームの中性化および二次電子放出の影響を受けずに入射ビーム量を計測することができるようにしたイオンビーム照射装置を提供する。【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、イオン源2から引き出されたイオンビーム8の一部を受けるように配置されていて、運動エネルギーを有するイオンまたは中性粒子の入射によってその全入射量に応じた量の磁性変化を起こす磁気媒体22(検出手段)と、この磁気媒体22の磁性の変化を検出してその変化量に応じた電気信号Sを出力する磁気ヘッド28(計測手段)とを備えている。

請求項（抜粋）：

イオン源から引き出したイオンビームを真空雰囲気中で被処理物に照射して処理を施すイオンビーム照射装置において、前記イオン源から引き出されたイオンビームの一部を受けるように配置されていて、運動エネルギーを有するイオンまたは中性粒子の入射によってその全入射量に応じた量の化学的または物理的な性質の変化を起こす検出手段と、この検出手段の化学的または物理的な性質の変化を検出してその変化量に応じた電気信号を出力する計測手段とを備えることを特徴とするイオンビーム照射装置。

IPC (4件)：

H01J 37/317 ,  G01T 1/29 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01J 37/317 C ,  G01T 1/29 B ,  H01L 21/265 T ,  H01L 21/302 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-052086
  
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-287734   出願人：日本電気株式会社
• 特開昭63-221281
  
• 特開昭57-095057