特許

J-GLOBAL ID：200903076443234502

イオン注入装置

発明者： 山本 博規
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-287734
公開番号（公開出願番号）：特開平8-148112
出願日： 1994年11月22日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】300keV以上の高エネルギーイオン注入装置のイオンビームエネルギーを容易に求める。【構成】イオン注入装置のエンドステーションに特性X線7を発生する金属のターゲット6と発生したX線を検出するX線検出器8を設ける。このX線検出器8によって検出された特性X線強度をモニターすることにより、イオン注入最中でもイオンビームエネルギーを検出することが可能になる。

請求項（抜粋）：

イオン源から引き出されたイオンビームを選別・加速し、試料表面に注入するイオン注入装置において、前記イオンビームをターゲットにあて発生する特性X線を測定してイオンビームのエネルギーを測定する為の特性X線測定手段を設けたことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (2件)：

H01J 37/317 ,  H01L 21/265

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭53-076759
  
• 特開昭55-134930
  
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-173651   出願人：日新ハイボルテージ株式会社