特許
J-GLOBAL ID：200903008622720970
マイクロレンズの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-159788
公開番号（公開出願番号）：特開平11-008372
出願日： 1997年06月17日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：
【要約】【課題】レンズの集光面積を大きく確保し、光電変換素子への集光量を向上させることができるマイクロレンズの形成方法を提供する。【解決手段】マイクロレンズ用レジスト層をパターニングして島状のアイランド状パターンを形成した後、熱変形させて島状の第1レンズ12を形成し、さらにこの第1レンズ12の面上に、少なくともこの面上の一方向には第1レンズ12の寸法より小さい寸法のアイランド状パターン18aを形成し、続いてこのアイランド状パターン18aを熱変形させて、上記面上の一方向には上記第1レンズ12の寸法より小さいか、あるいは同等寸法の第2レンズ14を第1レンズ12の面上に重ねて形成する。
請求項（抜粋）：
マイクロレンズ形成用のマイクロレンズ用レジスト層をパターニングしてレジストパターンを形成し、このレジストパターンを熱変形させてマイクロレンズを形成するマイクロレンズの形成方法において、上記レジストパターンを形成した後、このレジストパターンを熱変形させて島状の第1のレンズを形成する工程と、上記第1のレンズの面上に、少なくともこの面上の一方向には上記第1のレンズ寸法より小さい寸法の上記レジストパターンを形成する工程と、を具備することを特徴とするマイクロレンズの形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 27/14 D
, G02B 3/00 A
