特許
J-GLOBAL ID：200903008634197156
マスクパターン補正方法及びマスクパターン作成システム
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-375477
公開番号（公開出願番号）：特開2001-188336
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：
【要約】【課題】投影光学系によりウェハ上に所望パターンを形成するために用いられるマスクパターン補正方法において、短い補正時間で高精度な補正を実現する。【解決手段】 設計パターンから補正対象エッジを抽出するステップS2と、前記補正対象エッジから隣接するパターンの最近接エッジまでの距離を算出する距離算出ステップとS6、この距離算出ステップにおいて、算出された距離が決められたある距離より小さい場合には、前記補正対象エッジから決められたある範囲内にあるパターンレイアウトに応じてシミュレーションによりエッジ移動量を算出し、算出されたエッジ移動量に基づいて前記補正対象エッジを移動させるステップS11と、前記距離算出ステップにおいて、前記算出された距離が決められた距離より大きい場合には、該距離に応じて予めルール化されたエッジ移動量に基づいて前記補正対象エッジを移動させるステップS8。
請求項（抜粋）：
投影光学系によりウェハ上に所望パターンを形成するために用いられるマスクパターン補正方法において、設計パターンから補正対象エッジを抽出するステップと、前記補正対象エッジから隣接するパターンの最近接エッジまでの距離を算出する距離算出ステップと、この距離算出ステップにおいて、算出された距離が決められた有る距離より小さい場合には、前記補正対象エッジから決められたある範囲内にあるパターンレイアウトに応じてシミュレーションによりエッジ移動量を算出するステップと、前記シミュレーションで算出されたエッジ移動量に基づいて前記補正対象エッジを移動させるステップと、前記距離算出ステップにおいて、前記算出された距離が決められた距離より大きい場合には、予めルール化されたエッジ移動量に基づいて前記補正対象エッジを移動させるステップとを含むことを特徴とするマスクパターン補正方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 502 Z
2H095BB01
, 2H095BB36
, 2H095BC09
, 5F046AA25
