荷電粒子ビーム露光システム及び露光方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-333353
公開番号（公開出願番号）：特開平7-191199
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：

【要約】【目的】データ処理量、データ処理時間及びデータ転送時間を減少させ、かつ精度良くパターンを描画できる露光方法及び露光装置を提供する。【構成】マルチビーム方式の露光において、露光すべきパターンを、副偏向器の一回の走査で露光できる領域を最大のサイズとするセルストライプ単位に分けるステップ(a)と、セルストライプ単位のパターンデータをメモリに格納するステップ(b)と、セルストライプの位置を示す位置データを露光すべきパターンデータが格納されている前記メモリのアドレス情報とともに露光する順番にソートするステップ(c)と、前記位置データから主偏向器及び副偏向器の偏向量データを算出するステップ(d)と、前記パターンデータ及び前記偏向量データを用いてパターンを試料上に描画するステップ(e)とを含む構成である。

請求項（抜粋）：

試料が搭載されたステージを第1の方向に連続的に移動させながら、複数形成された荷電粒子ビームを全体として所望のビーム形状となるように制御し、かつ主偏向器と副偏向器で荷電粒子ビームを偏向して試料上にパターンを描画するマルチビーム方式の露光方法において、露光すべきパターンを、副偏向器の一回の走査で露光できる領域を最大のサイズとするセルストライプ単位に分けるステップ(a)と、セルストライプ単位のパターンデータをメモリに格納するステップ(b)と、セルストライプの位置を示す位置データを露光すべきパターンデータが格納されている前記メモリのアドレス情報とともに露光する順番にソートするステップ(c)と、前記位置データから主偏向器及び副偏向器の偏向量データを算出するステップ(d)と、前記パターンデータ及び前記偏向量データを用いてパターンを試料上に描画するステップ(e)とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

荷電粒子ビーム露光の方法と装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-060164 出願人：富士通株式会社
特開昭62-072124
特開平4-100050

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