特許

J-GLOBAL ID：200903008665335735

毛髪用洗浄剤組成物

発明者： 手塚 洋二 ,  円山 圭一 ,  横澤 慶一
出願人/特許権者： 日本油脂株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-017890
公開番号（公開出願番号）：特開2007-197365
出願日： 2006年01月26日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：

【課題】 洗髪時における洗浄性および手櫛通りに優れ、毛髪に柔軟性を付与することができ、なおかつ経時安定性に優れた毛髪用洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】 組成物全量に対し、下記の成分A)を0.01〜20重量%含有することを特徴とする毛髪用洗浄剤組成物。A)下記の式(I)で示されるポリアルキレングリコール誘導体。 R1O-(AO)m-(CH2CH2CH2CH2O)l-(AO)n-R2 (I)(式中、AOは炭素数2〜3のオキシアルキレン基、R1とR2は、同一または異なってもよい炭素数6〜24の脂肪酸残基、炭化水素基または水素原子で、R1およびR2に占める水素原子の割合は0.5以下である。lは、オキシテトラメチレン基の平均付加モル数で、1≦l≦50、m+nは、オキシアルキレン基の平均付加モル数で、1≦m+n≦200を満たし、さらに、0.02≦l/(m+n)≦1を満たす。)【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

組成物全量に対し、下記の成分A)を0.01〜20重量%含有することを特徴とする毛髪用洗浄剤組成物。 A)下記の式(I)で示されるポリアルキレングリコール誘導体。 R1O-(AO)m-(CH2CH2CH2CH2O)l-(AO)n-R2 (I) (式中、AOは炭素数2〜3のオキシアルキレン基、R1とR2は、同一または異なってもよい水素原子、炭素数6〜24の脂肪酸残基または炭化水素基であり、かつ該水素原子の割合は0.5以下である。lは、オキシテトラメチレン基の平均付加モル数で、1≦l≦50、m+nは、オキシアルキレン基の平均付加モル数で、1≦m+n≦200を満たし、さらに、0.02≦l/(m+n)≦1を満たす。)

IPC (2件)：

A61K 8/86 ,  A61Q 5/02

FI (2件)：

A61K8/86 ,  A61Q5/02

Fターム (23件)：

4C083AC122 ,  4C083AC302 ,  4C083AC392 ,  4C083AC642 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AD041 ,  4C083AD042 ,  4C083AD132 ,  4C083BB05 ,  4C083BB07 ,  4C083CC38 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083EE01 ,  4C083EE03 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29 ,  4C083FF01 ,  4C083FF05

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 毛髪洗浄剤組成物及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-298101   出願人：ライオン株式会社
• 毛髪化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-239569   出願人：花王株式会社
• 毛髪洗浄組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-365552   出願人：ライオン株式会社