光伝送性層、光電子デバイス及びその製造法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上野英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-109736
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303439
出願日： 1998年04月20日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】微小レンズを有する光電子要素を複数高密度実装したデバイスを容易に精度良く作製できる層構成を提供する。【解決手段】光を採光し又は結像させるための1つ以上の微小レンズ要素と前記光を受けるための光電子要素の配列とを含む光電子デバイスにおいて、微小レンズアレイによって伝送される光が光電子要素上に結像するように予め定められた厚さと外郭表面を有する光伝送性材料光伝送性層を設けた。

請求項（抜粋）：

光を採光し又は結像させるための1つ以上の微小レンズ要素と前記光を受けるための受光要素の配列とを含む光電子デバイスにおいて中間層として使用できるように適合させた層であって、微小レンズアレイによって伝送される光が受光要素上に結像するように予め定められた厚さと外郭表面を有する光伝送性材料を包含することを特徴とする光伝送性層。

IPC (3件)：

H01L 31/0232 , G03F 7/00 , H01L 33/00

FI (3件)：

H01L 31/02 D , G03F 7/00 , H01L 33/00 M

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-229803
特開平4-012568
特開平3-152972

全件表示

前のページに戻る