特許
J-GLOBAL ID:200903008756981370

被覆材料の製造方法および製造設備

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曽々木 太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-348809
公開番号(公開出願番号):特開2003-147581
出願日: 2001年11月14日
公開日(公表日): 2003年05月21日
要約:
【要約】【課題】 品質の安定した被覆材料を製造でき、しかも生産性および歩留まりが向上する被覆材料の製造方法および製造設備を提供する。【解決手段】 被覆材料の膜厚測定を、基材表面への被膜形成がなされるライン上においてなすものである。
請求項(抜粋):
膜厚測定を、基材表面への被膜形成工程と同一ライン上においてなすことを特徴とする被覆材料の製造方法。
IPC (3件):
C25D 7/06 ,  C25D 21/12 ,  G01B 11/06
FI (3件):
C25D 7/06 N ,  C25D 21/12 C ,  G01B 11/06 H
Fターム (33件):
2F065AA30 ,  2F065BB13 ,  2F065BB15 ,  2F065CC06 ,  2F065CC31 ,  2F065DD00 ,  2F065EE00 ,  2F065EE10 ,  2F065FF41 ,  2F065FF61 ,  2F065GG07 ,  2F065GG16 ,  2F065GG21 ,  2F065GG23 ,  2F065GG24 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065NN20 ,  2F065QQ00 ,  2F065RR08 ,  4K024AA10 ,  4K024AA11 ,  4K024AB01 ,  4K024BA03 ,  4K024BA04 ,  4K024BB25 ,  4K024BC01 ,  4K024CB21 ,  4K024CB24 ,  4K024DB07 ,  4K024GA16
引用特許:
審査官引用 (5件)
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