特許
J-GLOBAL ID：200903008766770033
フォトマスクおよびこれを用いた凹凸体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-040737
公開番号（公開出願番号）：特開平11-237625
出願日： 1998年02月23日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：
【要約】【課題】 安価であり、凹凸体における曲面状凹凸部の形状を制御できるフォトマスクを得、このようなフォトマスクを用いることにより所望の形状の曲面状凹凸部を有する凹凸体を生産性良く製造でき、しかも大面積の曲面状凹凸部も容易に形成できる凹凸体の製造方法の提供。【解決手段】 凹凸体用基材32上に形成された感光性樹脂層34を、表面が平坦な透明基板2上に曲面状凹凸部4aを有し、凹凸部4aの形状に合わせて光透過量を調整する樹脂層4が形成されてなるフォトマスク1を使用して露光し、ついで現像する凹凸体の製造方法。
請求項（抜粋）：
表面が平坦な透明基板上に、曲面状凹凸部を有し、該凹凸部の形状に合わせて光透過量を調整する樹脂層が形成されてなることを特徴とするフォトマスク。
IPC (6件)：
G02F 1/1335 520
, G02B 3/00
, G02B 5/02
, G02B 5/08
, G03F 1/08
, B29D 11/00
G02F 1/1335 520
, G02B 3/00 A
, G02B 3/00 Z
, G02B 5/02 C
, G02B 5/08 B
, G03F 1/08 Z
, B29D 11/00
