特許

J-GLOBAL ID：200903008891525776

電子線描画装置の調整方法

発明者： 早田 康成 ,  染田 恭宏 ,  佐藤 秀寿 ,  伊藤 博之 ,  加藤 慎一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-129087
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335531
出願日： 1994年06月10日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】対物絞りを用いることなく、より高精度な電子線描画装置の光学調整を実現する。【構成】照射された試料面9上の図形内で複数位置を異なる焦点条件で測定し、各変化量か複数位置内の相対変化量または両者の変化量を小さくする方向に、非点収差の補正量、電子鏡体アライナの強度、アパーチャー13、14の位置など、電子光学系の調整を行う。

請求項（抜粋）：

一括図形照射方法が可能な電子線描画装置の調整方法において、試料上に照射された図形状ビームによる試料上の図形内での複数の位置を、異なる焦点条件のもとで測定し、それぞれの変化量または複数の位置の間の相対的変化量、あるいはそれら両方の変化量を小さくする方向に、図形選択に伴う非点収差の補正量、図形選択に伴う焦点の補正量、電子鏡体のアライナの強度、アパーチャーの位置などの、電子光学系の調整を行うことを特徴とする電子線描画装置の調整方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/09 ,  H01J 37/21 ,  H01J 37/305

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 荷電粒子ビーム露光装置及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-210165   出願人：富士通株式会社