特許

J-GLOBAL ID：200903008910205826

放電プラズマ処理装置

発明者： 田辺 正文 ,  坪井 秀夫 ,  伊藤 正博 ,  林 俊雄 ,  内田 岱二郎
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-052416
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263189
出願日： 1994年03月24日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 真空チャンバ内を超高真空に維持しながら、磁気中性線放電プラズマを利用して基板等を処理することができる放電プラズマ処理装置を提供すること。【構成】 磁気中性線放電プラズマを形成する電場発生コイルを真空チャンバ内に設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内に連続して存在する磁場ゼロの位置である磁気中性線を形成するようにした磁場発生手段と、電場発生手段として真空チャンバ内に設けられ、磁場発生手段によって真空チャンバ内に形成された磁気中性線に沿って電場を加えてこの磁気中性線に放電プラズマを発生させる電場発生コイルとを設けたことを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H05H 1/46 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-138432
  
• 放電プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-052418   出願人：日本真空技術株式会社