特許
J-GLOBAL ID：200903008940403398
基材又は基板表面の汚染防止方法と装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-127444
公開番号（公開出願番号）：特開平8-303827
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】 微粒子の濃度と基材及び基板表面の接触角を増大させる非メタン炭化水素が効果的に除去できる基材又は基板表面の汚染防止方法及び装置を提供する。【構成】 基材又は基板表面の汚染を防止する装置13において、該基材又は基板と接触する気体を通す、微粒子をクラス1000以下となるまで除去するための除塵手段3-1、3-2と、非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下とする塩基性物質を含む吸着材を用いた吸着手段4とを有することとしたものであり、前記吸着手段は、塩基性物質とケイ酸塩、アルミナ、シリカゲル、ゼオライト、炭素繊維、ガラス繊維から選ばれた1種類以上の担体とからなる吸着材を充填した吸着筒とすることができる。
請求項（抜粋）：
基材又は基板表面の汚染を防止する方法において、該基材又は基板と接触する気体を、該気体中の微粒子濃度をクラス1000以下に除塵処理、及び非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に少なくとも塩基性物質を含む吸着材を用いて吸着処理することを特徴とする基材又は基板表面の汚染防止方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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