特許

J-GLOBAL ID：200903008959108770

基板の洗浄乾燥方法並びに基板の洗浄乾燥装置

発明者： 矢田 秀雄 ,  春日 博文
出願人/特許権者： エム・エフエスアイ株式会社 ,  セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 近藤 利英子 ,  吉田 勝広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-354123
公開番号（公開出願番号）：特開2004-202279
出願日： 2002年12月05日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】マランゴニ効果を最大限に利用できる条件を見いだし、基板の洗浄乾燥処理において、基板へのパーティクル付着が抑制され、付着したパーティクルに対する除去作用を備え、且つ使用する有機溶剤の消費量が少なく、しかも安全に使用できる機構を有する基板の洗浄乾燥方法、並びに洗浄乾燥装置の提供。【解決手段】基板に対し、純水リンス及びそれに続いて乾燥を行う基板の洗浄乾燥方法において、リンス水によって浸漬された状態の基板表面からリンス水を排除する際に、リンス水が0.1〜50mm/sの排除速度で排出され、且つリンス水中から露出した基板周辺が、有機溶剤蒸気濃度0.1〜4.0%の雰囲気となるようにする基板の洗浄乾燥方法、並びに洗浄乾燥装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に対し、純水リンス及びそれに続いて乾燥を行う基板の洗浄乾燥方法において、リンス水によって浸漬された状態の基板表面からリンス水を排除する際に、リンス水が0.1〜50mm/sの排除速度で排出され、且つリンス水中から露出した基板周辺が、有機溶剤蒸気濃度0.1〜4.0%の雰囲気となるようにすることを特徴とする基板の洗浄乾燥方法。

IPC (2件)：

B08B3/04 ,  H01L21/304

FI (5件)：

B08B3/04 Z ,  H01L21/304 642A ,  H01L21/304 642F ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 651H

Fターム (9件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201BB03 ,  3B201BB13 ,  3B201BB82 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-291128
  
• 基板表面の乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-131662   出願人：株式会社カイジョー
• 乾燥方法および乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-228528   出願人：三星電子株式会社
• 特開平2-291128