特許
J-GLOBAL ID：200903008981817687
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-324534
公開番号（公開出願番号）：特開平11-161915
出願日： 1997年11月26日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：
【要約】【課題】 面記録密度を向上するために微細化するにも拘らず磁極部分のスロートハイトTHおよびMRハイトを所望の設計値通りとするとともに書込の際のサイドフリンジ磁束を少なくした高性能の薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 第1の磁性層47の上にギャップ層48を形成し、絶縁層49, 51, 53によって絶縁分離された薄膜コイル50, 52を形成した後、第2の磁性層54を所定のパターンにしたがって形成する。第2の磁性層の磁極部分54a の側面に非磁性材料のサイドウォール55a を形成した後、磁極部分に隣接するギャップ層48を異方性エッチングによって選択的に除去した後、斜めからのイオンミリングによって第1の磁性層を部分的に除去して位置基準となる内側側面56a を有する開口部56を形成し、この内側側面を位置の基準としてエアベアリング面を研磨する。
請求項（抜粋）：
磁気記録媒体と対向し、記録トラックの幅を規定する幅の磁極部分を有する第1の磁性層と、この第1の磁性層の磁極部分の端面とともにエアベアリング面を構成する磁極部分を有し、エアベアリング面から離れた位置において第1の磁性層と磁気的に連結された第2の磁性層と、この第2の磁性層の少なくとも磁極部分の側面を覆うように形成された非磁性材料のサイドウォールと、少なくとも前記エアベアリング面において第1の磁性層の磁極部分と第2の磁性層の磁極部分との間に介挿された非磁性材料より成るギャップ層と、前記第1および第2の磁性層を通り、前記エアベアリング面において書込用磁束を発生させるように前記第1および第2の磁性層の間に絶縁層を介して配設された部分を有する薄膜コイルと、前記第1および第2の磁性層、ギャップ層、絶縁層および薄膜コイルを支持する基体とを具え、前記エアベアリング面に対する位置基準面となる内側面を有する開口部を、前記第1および第2の磁性層の磁極部分の側縁と隣接する部分に、前記ギャップ層を貫通して第1の磁性層の厚さの一部分にまで達するように形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
IPC (3件)：
G11B 5/31
, G11B 5/265
, G11B 5/39
G11B 5/31 D
, G11B 5/31 K
, G11B 5/265 F
, G11B 5/39
