特許
J-GLOBAL ID:200903009029604919

表示基板用レーザ加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-177843
公開番号(公開出願番号):特開2001-001171
出願日: 1999年06月24日
公開日(公表日): 2001年01月09日
要約:
【要約】【課題】大形表示基板の平行等間隔パターン部と斜めパターン部とを有する電極パターンの加工において、斜めパターン部の加工に時間がかかっていたのを改善し全体の処理時間を速める。【解決手段】加工対象のフラットパネル表示基板6の平行パターン部を加工する固定光学部2と、時間のかかる斜めパターン部を加工する高速処理可能のガルバノメータスキャン部5と、レーザ光を出射するレーザ発振器1と、表示基板6を載置するXYステージ4と、各部を制御して表示基板6の電極パターンを生成する制御部6とで構成する。
請求項(抜粋):
フラットパネル表示基板(以下表示基板という)の表面上に複数ラインを平行等間隔で並べた平行パターン部とこの平行パターン部の各ラインに続く複数ラインを斜め方向に並べた斜めパターン部とを有する電極パターンを生成するレーザ加工装置において、レーザ光を出射するレーザ発振器と、前記レーザ光を入射して前記平行パターン部を生成するための固定光学部と、前記レーザ光を前記固定光学部を介し入射し前記斜めパターン部を生成するためのガルバノメータスキャン部と、前記表示基板を載置し二次元移動するXYステージと、前記固定光学部と前記ガルバノメータスキャン部と前記XYステージとを制御する制御部とを備えることを特徴とする表示基板用レーザ加工装置。
IPC (5件):
B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  G02F 1/1343 ,  B23K101:36
FI (5件):
B23K 26/00 H ,  B23K 26/00 M ,  B23K 26/06 Z ,  B23K 26/08 F ,  G02F 1/1343
Fターム (18件):
2H092GA05 ,  2H092GA32 ,  2H092HA02 ,  2H092HA04 ,  2H092HA06 ,  2H092HA12 ,  2H092HA19 ,  2H092MA35 ,  2H092NA27 ,  4E068AC00 ,  4E068CA07 ,  4E068CB01 ,  4E068CB02 ,  4E068CD08 ,  4E068CD12 ,  4E068CE03 ,  4E068CE04 ,  4E068DA09
引用特許:
出願人引用 (3件)

前のページに戻る