特許

J-GLOBAL ID：200903009042145176

真空熱処理装置

発明者： 高橋 誠一 ,  浅利 伸 ,  見付 匡弘 ,  藤原 律子 ,  砂賀 芳雄
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-262659
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087254
出願日： 1997年09月10日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 処理対象物が置かれた真空雰囲気に、不純物となる大気成分が侵入しない真空熱処理装置を提供する。【解決手段】この真空熱処理装置1では、第1の石英チューブ11と、第1の石英チューブ11の内部と外部にそれぞれ配置された第2の石英チューブ12と発熱体15とを有し、第1、第2の石英チューブ11、12間の空間と、第2の石英チューブ12内の空間とを独立に真空排気できるように構成されている。第2の真空熱処理装置12内を真空雰囲気にし、発熱体を発熱させる際、第1、第2の石英チューブ11、12間の空間を真空排気する。第2の石英チューブ12を透過する大気成分が減少し、高品位の真空雰囲気で処理対象物17を加熱処理できるようになる。

請求項（抜粋）：

第1の石英チューブと、第2の石英チューブと、発熱体とを有し、前記第2の石英チューブは、前記第1の石英チューブより小径に形成され、前記第1の石英チューブ内に配置され、前記発熱体は前記第1の石英チューブの外側に配置され、前記第2の石英チューブ内の空間と、前記第1、第2の石英チューブ間の空間とは、独立に真空排気できるように構成されたことを特徴とする真空熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 ,  C30B 25/16

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 B ,  C23C 16/44 D ,  C30B 25/16

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-200523
  
• 熱処理装置及び熱処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-100581   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-107766   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社