特許
J-GLOBAL ID：200903009096843421
制御システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-168160
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074170
出願日： 1998年06月16日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 半導体ウエハを処理する複数の処理装置を一元的に制御するシステムの保守性の向上を図る。【解決手段】 各処理装置毎のレシピ(プロセス条件値)の集中管理やプロセスコントロールをはじめとして、各処理装置11から得られる全プロセスデータの集中モニタリング処理等を行うAGC(アドバンス・グループ・コントローラ)を制御システムに付加接続する。各処理装置11から得られる全プロセスデータを集中モニタリングできることで、従来のホストコンピュータ上でプロセスデータを集中モニタリングする方式に比べ、処理装置の異常や劣化状態をより詳細かつ早期に発見することができる。また、プロセスデータを収集、モニタリングするハードウェアをサーバ装置とクライアント装置とに分離し、AGCの制御負荷を分散化したことで接続可能な処理装置数を増加することができる。
請求項（抜粋）：
基板に対して所定の処理を行う複数の処理装置を個別に制御する複数の制御装置と、前記制御装置の各々で生成されたほぼ全てのプロセスデータを取り込んで蓄積する蓄積部を有するサーバ装置と、前記サーバ装置から前記蓄積されたプロセスデータを取り込み編集する編集部と、編集データを表示する表示部を有するクライアント装置を含むコントロール装置と、を有することを特徴とする制御システム。
IPC (5件)：
H01L 21/02
, G05B 19/048
, G05B 23/02 301
, G06F 3/00 652
, G06F 17/60
H01L 21/02 Z
, G05B 23/02 301 N
, G06F 3/00 652 C
, G05B 19/05 D
, G06F 15/21 R
