投影露光装置及び方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山下穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-094954
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284222
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】投影露光時に生じるバイアスすなわち繰り返し部の線幅と孤立部の線幅の差を、投影露光装置の個々のばらつきに関係なく所望の範囲内に押さえる。【解決手段】絞り制御装置11は、開口絞り9、虹彩絞り13、リレーレンズ系3のうちの少なくとも一方を制御する。線幅予測手段12は、マスクのパターンの情報、レンズ8の波面収差情報、照明系の有効光源の大きさや形状の情報、レーザ1の波長スペクトルの半値幅情報、露光による投影レンズ8の温度変化情報などに基づいて、繰り返しパターンと孤立パターンの間のバイアス値を計算し、このバイアスの値が許容値をはずれた場合には、補正すべきバイアスに相当する投影光学系8の開口絞り9の補正量か、照明光学系の有効光源の補正値を計算し、この計算結果に基づいて、絞り制御装置11を駆動する。

請求項（抜粋）：

マスクを照明する照明光学系と、該照明されたマスクのパターンを感光基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記マスク上のパターンが前記投影光学系によって前記感光基板上に投影された像の線幅情報を予測する線幅予測手段と、前記予測結果に基づいて、前記投影光学系の開口絞り、又は、前記照明光学系の有効光源の大きさのうち、少なくとも一方を変更する制御手段とを備えることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 1/08 D , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D

Fターム (7件)：

2H095BB02 , 5F046BA03 , 5F046CB05 , 5F046DA02 , 5F046DA12 , 5F046DB01 , 5F046DB05

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-050417
特開平2-050417
レジストの吸収光量分布評価方法及びシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-334435 出願人：株式会社東芝

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