特許
J-GLOBAL ID：200903009220519140
電子放出部形成用材料、電子放出素子および画像形成装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-209379
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055561
出願日： 1994年08月11日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：
【要約】【目的】 フォーミング時や電子放出時のばらつきの小さい電子放出素子の製造方法を提供する。【構成】 表面伝導型電子放出素子の電子放出部を形成する、下記一般式(I)で表されるカルボン酸金属塩からなる電子放出部形成用材料。前記カルボン酸金属塩を対向する電極を有する基板に塗布し、次に加熱焼成してカルボン酸金属塩を無機金属又は金属無機化合物として電子放出部形成用薄膜を形成した後、通電フォーミング処理して薄膜に電子放出部を形成する電子放出素子の製造方法。【化1】(Cn X2n+1COO)m M (I)(X:H、F、Cl、Br及びIの1つ又は複数、M:金属、n:0〜30、m:1〜4)
請求項（抜粋）：
対向する電極間に電子放出部を有する表面伝導型電子放出素子の電子放出部を形成する材料であり、下記一般式(I)で表されるカルボン酸金属塩からなることを特徴とする電子放出部形成用材料。【化1】(Cn X2n+1COO)m M (I)(式中、XはH、F、Cl、BrおよびIから選ばれた1つもしくは複数、Mは金属、nは0〜30の整数、mは1〜4の整数を示す)
IPC (3件)：
H01J 1/30
, H01J 9/02
, H01J 31/12
