特許

J-GLOBAL ID：200903009312033235

製造工程仕様作成運営システム、プロセスデータ作成システム及び半導体装置の製造方法

発明者： 青木 伸俊 ,  金村 貴永
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 竹村 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-156084
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335193
出願日： 1997年05月30日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：

【要約】【課題】 生産管理システムとシミュレーションシステムの双方に入力可能なプロセスデータを用いる事によりシミュレーションを有効に活用できる製造工程仕様運営システムを提供する。【解決手段】 このシステムは前記製造プロセスの各工程で用いられる製造装置に指示を行い或いは前記製造装置の制御を行う生産管理システム2と、前記製造プロセスの各工程のシミュレーションを実行するシミュレーションシステム3と、前記生産管理システムと前記シミュレーションシステムの双方の入力データとして使用が可能なプロセスデータを格納する記憶装置及び前記プロセスデータの編集を行う編集装置を備えたプロセスデータ作成システム1とを有する。製品開発にシミュレーションの効果的な活用ができ、製品製造に関する技術的なノウハウやシミュレーション上のノウハウを一括して容易にデータベース化できる。

請求項（抜粋）：

前記製造プロセスの各工程で用いられる製造装置に指示を行い、或いは前記製造装置の制御を行う生産管理システムと、前記製造プロセスの各工程のシミュレーションを実行するシミュレーションシステムと、前記生産管理システムと前記シミュレーションシステムの双方の入力データとして使用が可能なプロセスデータを格納する記憶装置及び前記プロセスデータの編集を行う編集装置を備えたプロセスデータ作成システムとを具備していることを特徴とする製造工程仕様作成運営システム。

IPC (4件)：

H01L 21/00 ,  B23Q 41/08 ,  G06F 17/60 ,  H01L 21/02

FI (4件)：

H01L 21/00 ,  B23Q 41/08 A ,  H01L 21/02 Z ,  G06F 15/21 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 生産管理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-034244   出願人：ソニー株式会社
• 製造工程管理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-303579   出願人：株式会社東芝