特許

J-GLOBAL ID：200903009327363681

光学式変位センサ

発明者： 山本 英二
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006411
公開番号（公開出願番号）：特開2000-205819
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】本発明は、光源、スケール、受光素子の配置が最適配置からずれた場合でも、S/Nの良好な出力信号が得られる光学式変位センサを提供する。【解決手段】本発明による光学式変位センサは、所定の形状を有する光ビームを出射する面発光レーザ光源と、前記面発光レーザ光源からの光ビームを横切るように変位し、かつ、前記光ビームによる回折干渉パターンを生成する所定周期の回折格子が形成されたスケールと、前記回折干渉パターンの所定部分を受光する光検出器とを具備し、前記面発光レーザ光源の光ビーム出射面と前記スケールの回折格子が形成された面との間隔をz1とし、前記回折格子が形成された面と前記光検出器の受光面との間隔をz2とし、前記スケール上の回折格子のピッチp1とし、nを自然数としたとき、前記光検出器は、受光面上における前記回折干渉パターンのピッチ方向にnp1(z1+z2)/z1の間隔で形成された複数の受光エリアにより構成される光強度検出手段を有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

所定の形状を有する光ビームを出射する面発光レーザ光源と、前記面発光レーザ光源からの光ビームを横切るように変位し、かつ、前記光ビームによる回折干渉パターンを生成する所定周期の回折格子が形成されたスケールと、前記回折干渉パターンの所定部分を受光する光検出器とを有する光学式変位センサにおいて、前記面発光レーザ光源の光ビーム出射面と前記回折格子が形成された面との間隔をz1とし、前記回折格子が形成された面と前記光検出器の受光面との間隔をz2とし、前記スケール上の回折格子のピッチp1とし、nを自然数としたとき、前記光検出器は、受光面上における前記回折干渉パターンのピッチ方向にnp1(z1+z2)/z1の間隔で形成された複数の受光エリアにより構成される光強度検出手段を有することを特徴とする光学式変位センサ。

FI (2件)：

G01B 11/00 G ,  G01B 11/00 C

Fターム (16件)：

2F065AA03 ,  2F065DD04 ,  2F065DD12 ,  2F065FF01 ,  2F065FF48 ,  2F065FF52 ,  2F065GG06 ,  2F065GG12 ,  2F065GG15 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL12 ,  2F065LL42 ,  2F065NN02 ,  2F065NN16

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭63-063916
  
• 光学式エンコーダ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-058640   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 特開昭64-043719
  

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-063916
  
• 光学式エンコーダ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-058640   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 特開昭64-043719