特許

J-GLOBAL ID：200903009349506168

プラズマ処理装置及び直流電位測定方法及び直流電位測定装置

発明者： 前橋 聡 ,  速水 利泰 ,  梅原 直征
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-231445
公開番号（公開出願番号）：特開2005-123578
出願日： 2004年08月06日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

【課題】 プラズマ処理装置において高周波電源からの高周波を伝搬し、または印加される部材の直流電位を安全確実に測定すること。【解決手段】 給電棒36は、整合器34とチャンバ10の底板部10aとの間でグランド電位に接続された同軸の筒状導体72によって電磁気的に遮蔽されている。この筒状導体72には、給電棒36から半径方向に適当な距離間隔を隔てて表面電位計70が取り付けられている。この表面電位計70は、給電棒36の静電気的な表面電位を静電容量を介して非接触で計測し、表面電位の測定値情報を含む表面電位検出信号を制御部68に与える。制御部68は表面電位計70からの表面電位検出信号を基に所要の信号処理または演算処理を行って給電棒36上の直流電位の測定値を求める。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

処理容器内に配置された高周波電極に高周波電源からの高周波電圧が高周波給電用の導体を介して印加されるプラズマ処理装置において前記高周波電極または前記高周波給電用導体の直流電位を測定する方法であって、 前記高周波電極または前記高周波給電用導体の静電気的な表面電位を静電容量を介して非接触で計測して前記直流電位の測定値を求める直流電位測定方法。

IPC (3件)：

H01L21/3065 ,  H05H1/00 ,  H05H1/46

FI (3件)：

H01L21/302 101G ,  H05H1/00 A ,  H05H1/46 M

Fターム (3件)：

5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004CB06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-301871
  
• プラズマに供給されるRF電流を感知する装置及びこのような装置に使用する波形サンプリング回路
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-068190   出願人：サイエンティフィックシステムズリサーチリミテッド
• 真空処理装置と電磁シールド装置及び傾斜コイルばね
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-362362   出願人：松下電器産業株式会社