特許
J-GLOBAL ID:200903009401309767
パルスレーザー発生装置およびパルスレーザー発生方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
川口 嘉之
, 松倉 秀実
, 和久田 純一
, 遠山 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-111610
公開番号(公開出願番号):特開2009-266894
出願日: 2008年04月22日
公開日(公表日): 2009年11月12日
要約:
【課題】マルチモードパルスレーザーの繰り返し周波数を高周波数化する。【解決手段】パルスレーザー発生装置は、モードロック方式によってレーザーパルス光を生成するレーザー共振器と、レーザーパルス光に含まれるモード光を間引く櫛形フィルター手段と、を有する。櫛形フィルター手段は、レーザーパルス光の周波数成分(モード)を一定周波数間隔で間引くことで、パルス列の繰り返し周波数が高められる。櫛形フィルター手段は、分光したレーザーパルス光に対して光学スリットを適用する構成とできる。また、櫛形フィルター手段として、エタロンを採用することも好適である。【選択図】図6
請求項(抜粋):
モードロック方式によってレーザーパルス光を生成するレーザー共振器と、
レーザーパルス光に含まれるモード光を間引く櫛形フィルター手段と、
を有するパルスレーザー発生装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (8件):
5F172AE06
, 5F172AF07
, 5F172NN27
, 5F172NR04
, 5F172NR05
, 5F172NR06
, 5F172ZA01
, 5F172ZA04
引用特許:
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