特許
J-GLOBAL ID：200903011507287015

パルスレーザー光の繰り返し周波数逓倍方法およびその装置

発明者：
田中 拓男

田中 拓男 について

, 
林 孝之

林 孝之 について

, 
河田 聡

河田 聡 について


出願人/特許権者：
独立行政法人理化学研究所

独立行政法人理化学研究所 について


代理人 (1件)： 上島 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-320101
公開番号（公開出願番号）：特開2006-133347
出願日： 2004年11月04日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：
【課題】従来の技術の有する上記した問題点1乃至問題点4を解消しながら、パルスレーザー光のパルスの繰り返し周波数を増加させることができるようにする。【解決手段】誘電体基板の第1の面から上記誘電体基板内に入射されたパルスレーザー光が、上記誘電体基板の上記第1の面に対向する第2の面と上記第1の面とによって多重反射して上記誘電体基板内を往復するのに要する時間が、上記第1の面から入射されたパルスレーザー光の周波数の逆数の整数分の1になるような厚みを有する上記誘電体基板に、上記第1の面からパルスレーザー光を入射し、上記第1の面と上記第2の面との間での多重反射により上記誘電体基板内を往復させるとともに当該往復により到達した上記第1の面から出射させ、時間軸上で元のパルスの間にパルスを櫛状に順次挿入する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
誘電体基板の第1の面から前記誘電体基板内に入射されたパルスレーザー光が、前記誘電体基板の前記第1の面に対向する第2の面と前記第1の面とによって多重反射して前記誘電体基板内を往復するのに要する時間が、前記第1の面から入射されたパルスレーザー光の周波数の逆数の整数分の1になるような厚みを有する前記誘電体基板に、前記第1の面からパルスレーザー光を入射し、前記第1の面と前記第2の面との間での多重反射により前記誘電体基板内を往復させるとともに該往復により到達した前記第1の面から出射させ、時間軸上で元のパルスの間にパルスを櫛状に順次挿入する ことを特徴とするパルスレーザー光の繰り返し周波数逓倍方法。
IPC (1件)：
G02B 5/30
FI (1件)：
G02B5/30
Fターム (5件)：
2H049BA02 ,  2H049BB11 ,  2H049BB16 ,  2H049BB22 ,  2H049BC22
引用特許：
出願人引用 (4件)
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