特許

J-GLOBAL ID：200903009475003503

基板端縁処理装置

発明者： 木▲崎▼ 幸治 ,  間宮 陽平
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-298731
公開番号（公開出願番号）：特開平9-139375
出願日： 1995年11月16日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：

【要約】【課題】 基板端縁洗浄時に基板の裏面に洗浄液が付着しないようにする。【解決手段】 基板Bを水平姿勢で保持する基板支持機構3と、この基板支持機構3に保持された基板Bの表面側端縁に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出口53bを備えた洗浄液吐出ノズル53aと、基板Bの表面側縁部に供給された洗浄液を吸引して系外に排出する長尺開口58を備えた吸引管52と、基板Bの裏面側端縁に付着した洗浄液を外方に吹き飛ばすガス噴射口54bを備えたガス噴射ノズル54aと、上記洗浄液吐出ノズル53aおよび上記ガス噴射ノズル54aを基板B表裏の側端縁に近接させて支持するノズルデッキ51とを有し、ガス噴射ノズル54aは洗浄液吐出ノズル53aよりも基板Bの中心側に設けられ、ノズルデッキ51を基板Bに対して進退させるノズルデッキ進退手段55が設けられている。

請求項（抜粋）：

表面に薄膜が形成された基板の端縁の不要薄膜を除去する基板端縁処理装置において、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、基板保持手段に保持された基板の表面側端縁に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出口を備えた洗浄液吐出ノズルと、基板の表面側端縁に供給された洗浄液を吸引する吸引手段と、基板の裏面側端縁に付着した洗浄液を基板の端縁より外方に吹き飛ばすガス噴射口を備えたガス噴射ノズルと、ガス噴射口が洗浄液吐出口に対して基板の中心側に位置するように洗浄液吐出ノズルとガス噴射ノズルとを支持するノズル支持手段と、基板端縁処理を施す処理位置と、基板から離間した待機位置との間で洗浄液吐出ノズルと、ガス噴射ノズルと吸引手段とを一体的に移動させる移動手段と、を有することを特徴とする基板端縁処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/306 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (5件)：

H01L 21/306 R ,  B08B 3/02 B ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 577

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 基板端縁洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-202827   出願人：大日本スクリーン製造株式会社