特許

J-GLOBAL ID：200903012307137716

基板端縁洗浄装置

発明者： 岡本 伊雄 ,  志摩 泰正 ,  酒井 由雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-202827
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037804
出願日： 1993年07月22日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：

【要約】【目的】 基板表面の所望の位置において溶解物を正確に吹き飛ばすことができるとともに、基板表面に塗布された薄膜の膜厚の均一性を乱すこと無く端縁を洗浄できるようにする。【構成】 表面に薄膜が形成された角型基板1を基板保持手段で保持させ、その角型基板1の端縁の表裏両面に溶剤ノズル3a,3bから溶剤を吐出して不要薄膜を溶解し、溶剤によって溶解された溶解物に対して、ガスノズル4a,4bから角型基板1の表面にガスをスポット状に吹き付け、溶解物を角型基板1の端縁の外方に吹き飛ばす。

請求項（抜粋）：

表面に薄膜が形成された基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより前記基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルとを備えた基板端縁洗浄装置において、前記ガスノズルからのガスを前記基板の表面にスポット状に吹き付けるように構成したことを特徴とする基板端縁洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 351

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板端縁洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-357131   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平3-263314
  
• 特開平1-253923