特許
J-GLOBAL ID：200903009496135680

p-ホスフィン基含有スチレン-スチレン系共重合体を配位子とする新規なポリマー担持遷移金属錯体及び該錯体からなる触媒

発明者：
菊地 俊光

菊地 俊光 について

, 
保原 智

保原 智 について


出願人/特許権者：
北興化学工業株式会社

北興化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-175488
公開番号（公開出願番号）：特開2007-302859
出願日： 2006年06月26日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：
【課題】構造が簡単であり、容易に低コストで製造でき、回収再利用性の点などで優れた、より実用的なポリマー担持金属錯体触媒および該触媒の調製に好適な触媒用配位子の提供。【解決手段】スチレンモノマー(1a):25〜90モル%と、p-ホスフィン基含有スチレン(2a):1〜70モル%と、ジビニルベンゼン(3a):1〜30モル%(但し、全モノマー((1a)+(2a)+(3a))=100モル%)とを共重合させてなるリン含有スチレン系共重合体(A)と、式(B):「M-XqLr」(MはPdなどの遷移金属原子やそのイオン、Xはハロゲンイオンなど、Lはトリフェニルホスフィンなどの配位子、q,rは0以上の整数)で表される金属塩または遷移金属錯体とを接触させてなり、該錯体(C)中における、遷移金属原子または遷移金属イオンMの遷移金属換算量が0.1〜20重量%であるポリマー担持遷移金属錯体。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(1a)で表されるスチレンモノマー:25〜90モル%と、 下記式(2a)で表されるp-ホスフィン基含有スチレンモノマー:1〜70モル%と、 下記式(3a)で表されるジビニルベンゼン:1〜30モル%(但し、全モノマー((1a)+(2a)+(3a))=100モル%)とを共重合させてなるリン含有スチレン系共重合体(A)と、下記式(B)で表される金属塩または遷移金属錯体とを接触させてなり、遷移金属原子または遷移金属イオンMの遷移金属換算量が0.1〜20重量%であるポリマー担持遷移金属錯体。
IPC (6件)：
C08F 212/14 ,  C08L 43/02 ,  C08K 5/00 ,  C08F 230/02 ,  B01J 31/30 ,  C08F 212/36
FI (6件)：
C08F212/14 ,  C08L43/02 ,  C08K5/00 ,  C08F230/02 ,  B01J31/30 Z ,  C08F212/36
Fターム (51件)：
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA22A ,  4G169BA22B ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC29A ,  4G169BC65A ,  4G169BC69A ,  4G169BC69B ,  4G169BC72B ,  4G169BE27A ,  4G169BE27B ,  4G169BE37A ,  4G169BE37B ,  4G169BE46A ,  4G169BE46B ,  4G169CB02 ,  4G169CB59 ,  4H006AA02 ,  4H006AC22 ,  4H006AC24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA48 ,  4H006BJ50 ,  4H006BR30 ,  4H006KA31 ,  4H039CA41 ,  4H039CD20 ,  4H039CD90 ,  4H039CL25 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AB40 ,  4H050WB16 ,  4H050WB17 ,  4H050WB21 ,  4J002BC101 ,  4J002DD076 ,  4J002EB076 ,  4J002EG046 ,  4J002EW136 ,  4J002FD206 ,  4J002GT00 ,  4J100AB02P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB16R ,  4J100BA62Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA15
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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引用文献：
審査官引用 (2件)

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