特許
J-GLOBAL ID：200903009500829683

基板処理装置

発明者：
芳谷 光明

芳谷 光明 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-226195
公開番号（公開出願番号）：特開2001-046941
出願日： 1999年08月10日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】傾斜姿勢で搬送される基板の上部端縁に層状に処理液を供給する基板処理装置において、基板の上側主面を均一に処理できる基板処理装置を提供する。【解決手段】そこで本発明では、複数の搬送ローラRによって傾斜姿勢で搬送され、スリットノズル10から上部端縁UEに薬液TLが層状に供給される基板Gの上方に、基板Gの上側主面US上を流下する薬液TLを誘導する複数の誘導部材15を配置する。
請求項（抜粋）：
傾斜姿勢で搬送される基板の主面に処理液を供給する基板処理装置において、基板の搬送方向と直交する面内で水平面に対して基板を傾斜させつつその主面に沿った方向に搬送する搬送手段と、搬送手段によって搬送される基板の搬送方向に沿った上部端縁に処理液を層状に供給するスリットノズルを有する処理液供給手段と、搬送手段によって搬送される基板の上側主面に対向するとともに基板の上部端縁側から下部端縁側にかけて延びる対向面を有し、搬送方向に沿った基板の長さ寸法よりも短い間隔で並列配置された複数の誘導部材と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (8件)：
B05C 11/08 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
B05C 11/08 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G03F 1/08 X ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/306 R ,  H01L 21/30 569
Fターム (27件)：
2H088FA17 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JA06 ,  2H090JC07 ,  2H095BB21 ,  2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096CA13 ,  2H096GA01 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042CB00 ,  4F042CB24 ,  4F042DF19 ,  4F042DF35 ,  4F042ED00 ,  5F043AA01 ,  5F043BB27 ,  5F043BB30 ,  5F043EE07 ,  5F043EE09 ,  5F046LA11 ,  5F046LA14
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-114132   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-078973   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-143065   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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