特許

J-GLOBAL ID：200903009592412228

酸化物薄膜の製造方法及び酸化物薄膜製造装置

発明者： 丸山 研二
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-127194
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335607
出願日： 2003年05月02日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】固体原料を用いて酸化物薄膜を成膜するときに、酸素空孔が高密度に形成されてしまうのを回避することができるようにする。【解決手段】固体有機金属原料を有機溶媒で溶解し、それを気化した原料ガスに対して、原料ガスに含まれる有機溶媒成分を選択的に加熱分解する加熱分解手段1と、加熱分解された有機溶媒の分解生成物を捕集する捕集手段2と、溶媒成分が除去された原料ガスに酸化ガスを混合して、被成膜基板上に酸化物薄膜を成膜する成膜手段3とを有して構成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

溶媒を用いて溶解した固体原料の溶液を気化してなる原料ガスを供給する工程と、 供給された前記原料ガスから前記溶媒成分を除去する工程と、 前記溶媒成分が除去された前記原料ガスに酸化ガスを混合して、酸化物薄膜を成膜する工程と を有することを特徴とする酸化物薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

H01L21/31 ,  C23C16/40 ,  C23C16/448 ,  H01L27/105

FI (4件)：

H01L21/31 B ,  C23C16/40 ,  C23C16/448 ,  H01L27/10 444C

Fターム (20件)：

4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030EA01 ,  4K030FA10 ,  4K030KA49 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC00 ,  5F045AC11 ,  5F045BB17 ,  5F045EE02 ,  5F045EE10 ,  5F083FR01 ,  5F083JA13 ,  5F083JA15 ,  5F083JA17 ,  5F083PR21

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-313751   出願人：株式会社荏原製作所
• 特開平4-318920