特許
J-GLOBAL ID：200903009608023146

濾過膜モジュールの洗浄方法

発明者：
安積 史野

安積 史野 について

, 
中塚 修志

中塚 修志 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 三浦 良和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-311304
公開番号（公開出願番号）：特開平8-141375
出願日： 1994年11月22日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】未透過物質の付着により目詰まりを生じた濾過膜モジュールを、特定濃度のNaClO溶液に特定時間接触させ、その後低圧フラッシングあるいは逆洗操作を行うことにより効果的かつ簡便に膜の透水性能を回復させる洗浄方法を提供する。【構成】表流水の水浄化システムにおける濾過膜モジュールの洗浄方法において、有効塩素濃度10〜1000mg/リットルのNaClO溶液に濾過膜を該濃度と接触時間の積が1000〜5000(mg/リットル)・hになるように接触させた後、原水側の膜表面を膜間差圧が0.3kg/cm2以下でフラッシングするか、あるいは、逆洗を行うことを特徴とする。水浄化システムが2本以上の濾過膜モジュールからなる場合には、少なくとも1本の濾過膜モジュールを使用しながら他の濾過膜モジュールを水処理システムに装着したまま洗浄することもできる。
請求項（抜粋）：
表流水の水浄化システムにおける濾過膜モジュールの洗浄方法において、有効塩素濃度10〜1000mg/リットルの次亜塩素酸ナトリウム(NaClO)溶液に濾過膜モジュールを接触させる際、該NaClO溶液の有効塩素濃度と接触時間との積が1000〜5000(mg/リットル)・hの範囲になるよう接触させた後、原水側の膜表面を膜間差圧が0.3kg/cm2以下でフラッシングするか、あるいは、逆洗を行うことを特徴とする濾過膜モジュールの洗浄方法。
IPC (5件)：
B01D 65/06 ,  B01D 65/02 ,  B01D 65/02 530 ,  B01D 71/16 ,  C02F 1/44
引用特許：
審査官引用 (4件)
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