特許
J-GLOBAL ID：200903009644791290

反射防止および防汚性能を有する三次元ナノポアポリマーフィルムとその製造方法

発明者：
王 武敬

王 武敬 について

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王 彦博

王 彦博 について

, 
陳 重裕

陳 重裕 について


出願人/特許権者：
財団法人工業技術研究院

財団法人工業技術研究院 について


代理人 (2件)： 朝日奈 宗太 ,  秋山 文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-240016
公開番号（公開出願番号）：特開2006-069207
出願日： 2005年08月22日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：
【課題】有効屈折率が大幅に低下された三次元ナノポアポリマーフィルムを提供する。【解決手段】三次元ナノポアポリマーフィルムの製造方法であって、(a)第1の溶剤中に、平均反応性官能基の数が2.0よりも大きい重合可能な化合物45〜95重量%、テンプレート剤5〜55重量%、および重合可能な化合物およびテンプレート剤の合計量に対して1〜10重量%の開始剤が均一に存在している三次元ナノポアポリマー塗料を調製する工程、(b)三次元ナノポアポリマー塗料を、基板の所定の塗布面に塗布する工程、(c)三次元ナノポアポリマー塗料からなる膜に、加熱または光線照射を行って、前記基板の所定の塗布面にポリマー層を形成する工程、および、(d)第2の溶剤により前記ポリマー層から前記テンプレート剤を溶出して、スポンジ状構造の断面を有した三次元ナノポアポリマーフィルムを形成する工程からなる製造方法である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
三次元ナノポアポリマーフィルムの製造方法であって、 (a)第1の溶剤中に、平均反応性官能基の数が2.0よりも大きい重合可能な化合物45〜95重量%、テンプレート剤5〜55重量%、および重合可能な化合物およびテンプレート剤の合計量に対して1〜10重量%の開始剤が均一に存在している三次元ナノポアポリマー塗料を調製する工程、 (b)三次元ナノポアポリマー塗料を、基板の所定の塗布面に塗布する工程、 (c)三次元ナノポアポリマー塗料からなる膜に、加熱または光線照射を行って、前記基板の所定の塗布面にポリマー層を形成する工程、および、 (d)第2の溶剤により前記ポリマー層から前記テンプレート剤を溶出して、スポンジ状構造の断面を有した三次元ナノポアポリマーフィルムを形成する工程、 からなる製造方法。
IPC (4件)：
B29C 41/12 ,  C08J 7/04 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10
FI (5件)：
B29C41/12 ,  C08J7/04 Z ,  C08J7/04 ,  G02B1/10 A ,  G02B1/10 Z
Fターム (40件)：
2K009AA12 ,  2K009CC24 ,  2K009CC33 ,  2K009CC35 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD06 ,  2K009EE05 ,  4F006AA11 ,  4F006AA31 ,  4F006AB24 ,  4F006AB34 ,  4F006AB37 ,  4F006BA11 ,  4F006BA14 ,  4F006CA05 ,  4F006DA04 ,  4F006EA01 ,  4F205AA21 ,  4F205AA39 ,  4F205AA42 ,  4F205AB01 ,  4F205AC05 ,  4F205AD32 ,  4F205AG01 ,  4F205AG20 ,  4F205AH73 ,  4F205AJ03 ,  4F205AJ06 ,  4F205AR12 ,  4F205AR17 ,  4F205GA06 ,  4F205GB01 ,  4F205GC06 ,  4F205GE24 ,  4F205GE25 ,  4F205GF24 ,  4F205GN13 ,  4F205GN29 ,  4F205GW34
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 米国特許第6605229号明細書
  • 多孔性物質
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-302537   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
審査官引用 (1件)
  • 多孔性物質
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-302537   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー

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