特許
J-GLOBAL ID：200903009656566283
基板処理方法および基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-055610
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252247
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 基板保持間隔が狭くなった場合にも、排液に際して、基板同士のくっつきを防止して基板の損傷を防止する。【解決手段】 各基板である複数のウエハ2はそれぞれその下方からリフタ24のウエハガイド23の溝部分で受けられて保持されているために、槽内全液の急速排液時における急激な液面の低下に伴って各ウエハ2の上側が互いに引き寄せられるように力が働き、各ウエハ2はそれぞれ上側ほど傾けようとする力の影響を受けやすくウエハ2同士がくっつきやすいが、制御手段27はウエハ2へ向けてのシャワーを、水洗槽21内の液面上に少なくともウエハ2の上側の所定の一部が出るまでは、流量少なく抑制又は停止しておき、しかる後に、十分な流量をシャワーしながら排液する。
請求項（抜粋）：
処理槽に貯留された浸漬処理液に基板を浸漬し、処理槽内より浸漬処理液を排液する際に、基板に液をシャワーする基板処理方法において、浸漬処理液の液面が、基板上端の高さから、基板の一部が浸漬処理液の液面より出る所要高さまでの区間に位置する間は、前記シャワー液の基板へ向けての供給を、前記区間より下に位置するときより抑制するまたは停止することを特徴とする基板処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 642
, H01L 21/304
, G02F 1/00
H01L 21/304 642 A
, H01L 21/304 642 F
, G02F 1/00
