特許
J-GLOBAL ID:200903009733306338

表面シール中空ガラス容器の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-542335
公開番号(公開出願番号):特表2000-512258
出願日: 1998年03月28日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】表面シール中空ガラス容器の製造方法は、製造プロセスにおいて、中空ガラス容器を製造するための機械の後方に設置された冷却炉の出口の範囲内で、シランを含有する水基剤の冷間コーティング処理剤を用いて中空ガラス容器の被覆を行い、その際に前記の第1層の上に引き続き以下の成分:I)官能基を1つ有するアルコキシシランと、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシランおよびテトラアルコキシシランから選択されたアルコキシシランとから製造される水基剤のオルガノポリシロキサン含有組成物、およびII)ロウ、脂肪酸部分エステル、脂肪酸および/または界面活性剤から選択された、ケイ素不含の成分を含有する水基剤の冷間コーティング処理剤の第2層を施与すること特徴とする。このようにして製造した中空ガラス容器は増加した連続使用強度を有する。
請求項(抜粋):
製造プロセスにおいて、中空ガラス容器を製造するための機械の後方に配置された冷却炉の出口の範囲内で、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシランおよび/またはテトラアルコキシシランもしくはその加水分解生成物および/または縮合生成物を含有する、水基剤の冷間コーティング処理剤を用いて中空ガラス容器の被覆を行う、表面シール中空ガラスビンの製造方法において、前記の第1層に引き続き、以下の成分:I.以下のもの:a)官能基を1つ有する、一般式: A-Si(R1)y(OR*)3-y IのアルコキシシランQモルおよびb)以下のもの:α)一般式: R2-Si(OR**)3 IIのトリアルコキシシランおよび/またはβ)一般式: R3R4Si(OR***)2 IIIのジアルコキシシランおよび/またはγ)一般式: Si(OR****)4 IVのテトラアルコキシシランから選択されたアルコキシシランMモル[前記式中、 Aは、直接あるいは脂肪族または芳香族炭化水素基を介してケイ素と結合したアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アミド基、エポキシ基、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基、シアノ基、イソシアナト基、ウレイド基、チオシアナト基、メルカプト基、スルファン基またはハロゲン基を少なくとも1個有する置換基を表し、 R1=メチル、エチルまたはA(前記の通り)、 y=0または1、 R*、R**、R***およびR****は、互いに無関係に1〜8個の炭素原子を有するアルキル基、またはアルキル[(ポリ)エチレングリコール]基で置換されている相応するアルキル基であり、 R2、R3およびR4は、互いに無関係にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基またはそれぞれ最大で18個の炭素原子を有する芳香族基あるいは一部フッ素化されたまたは過フッ素化されたおよび/またはアルキルオキシ基で、および/またはアリールオキシ基で置換されている基である]から、モル比0≦M/Q≦20で製造された水基剤のオルガノポリシロキサン含有組成物、II.以下のもの: a)ロウおよび/または b)脂肪酸部分エステルおよび/または c)脂肪酸および/または d)界面活性剤から選択されたケイ素不含の成分、を含有する水基剤の冷間コーティング処理剤を塗布することを特徴とし、さらに、水基剤の冷間コーティング処理剤は、0.1〜10重量%の乾燥分割合を有し、その際、乾燥分に対して、オルガノポリシロキサン含有組成物(成分I)対ケイ素不含の成分IIの重量比は、0.05:1〜20:1であることを特徴とする、表面シール中空ガラス容器の製造方法。
IPC (2件):
C03C 17/30 ,  C09D183/04
FI (2件):
C03C 17/30 A ,  C09D183/04
引用特許:
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (4件)
  • 特開昭61-006152
  • 特開昭63-117932
  • ガラス容器の擦り傷遮蔽剤
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-344748   出願人:日本ユニカー株式会社
全件表示

前のページに戻る