特許
J-GLOBAL ID：200903009749949905
非線形光学素子及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-323924
公開番号（公開出願番号）：特開平10-161164
出願日： 1996年12月04日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：
【要約】【課題】 低損失で信頼性が高く小型で駆動エネルギーの小さい非線形光学素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板12上に屈折率の高いGeドープのSiO2 ガラスからなるコア領域13を形成し、コア領域13を屈折率の低いクラッド領域14で囲んで光導波路11を形成する際に、コア領域13と交差するように外部から直流高電圧の電場を印加すると同時に電場及びコア領域13と交差するように波長550nm以下の励起光を照射することによりコア領域13に光学的異方性領域を形成することができ、低損失で信頼性が高く小型で駆動エネルギーの小さい非線形光学素子が得られる。
請求項（抜粋）：
基板上に屈折率の高いGeドープのSiO2 ガラスからなるコア領域を形成し、該コア領域を屈折率の低いクラッド領域で囲んで光導波路を形成する非線形光学素子の製造方法において、上記光導波路と交差するように外部から直流高電圧の電場を印加すると同時に電場及び光導波路と交差するように波長550nm以下の励起光を照射することによりコア領域に光学的異方性領域を形成することを特徴とする非線形光学素子の製造方法。
引用特許：
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