特許
J-GLOBAL ID:200903025814105014

2次光非線形性を有するシリカ系ガラス材料及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 研二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-264183
公開番号(公開出願番号):特開平10-111526
出願日: 1996年10月04日
公開日(公表日): 1998年04月28日
要約:
【要約】【課題】 印加電界を低くして、十分な光非線形性を有するSiO2系ガラス材料を得る。【解決手段】 コア部10aにおけるGe濃度を12モル%を超え、30モル%以下にする。また、紫外線励起ポーリングの際の印加電圧を1×105〜8×105V/cmの範囲にする。これによって、SiO2系ガラス材料に、非線形光学定数dとして2.5pm/V以上の光非線形性を付与する。
請求項(抜粋):
2次光非線形性を有する部位を含むSiO2系ガラス材料であって、2次光非線形性を有する部位のGe濃度が12モル%を超え30モル%以下であり、かつ2次光非線形性の大きさが非線形光学定数dとして2.5pm/V以上であることを特徴とする2次光非線形性を有するSiO2系ガラス材料。
引用特許:
審査官引用 (1件)

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