特許

J-GLOBAL ID：200903009763592807

回転式基板処理装置

発明者： 木▲崎▼ 幸治 ,  田中 悟 ,  吉野 裕文
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-215339
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066107
出願日： 1993年08月31日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】 浮遊ミストや液滴の基板への再付着を防止する。【構成】 基板洗浄装置1は、基板Wを回転させながら、表面を純水で洗浄する装置であって、基板保持部とモータとブラシ洗浄機構と飛散防止リング20と排気ダクト22とを備えている。基板保持部は、基板Wより大きい基板保持面4を有し、基板Wを中央部で保持する。モータは、基板保持面4に交差する軸の回りで基板保持部を回転させる。ブラシ洗浄機構は、基板保持部に保持された基板Wに対して、超音波振動する純水を供給するとともにブラシ洗浄する。飛散防止リング20は、基板保持面4の外周縁をその側方から上方にかけて覆うように配置され、基板Wの表面から飛散する純水を受ける。排気ダクト22は、飛散防止リング20の下方に設けられ、飛散防止リング20で受けた水滴や浮遊ミストを排出する。

請求項（抜粋）：

基板を回転させながら、前記基板の表面を処理液で処理する回転式基板処理装置であって、前記基板より大きい円形保持面を有し、前記基板を中央部で保持する基板保持手段と、前記円形保持面に交差する軸の回りに前記基板処理手段を回転させる回転手段と、前記基板保持手段に保持された基板に対して、前記処理液を供給する供給手段と、前記円形保持面の外周縁をその側方から上方にかけて覆うように配置され、前記基板表面から飛散する前記処理液を受けるカバー部材と、前記カバー部材の下方に配置され、前記カバー部材で受けた処理液を含む気体を排出するための排気手段と、を備えた回転式基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

引用特許：

審査官引用 (1件)

• レジスト塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-308405   出願人：茨城日本電気株式会社