特許
J-GLOBAL ID:200903009852996237
ポジ型放射線感応性混合物およびそれを使用して製造した記録材料
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-054564
公開番号(公開出願番号):特開平7-005689
出願日: 1994年02月28日
公開日(公表日): 1995年01月10日
要約:
【要約】 (修正有)【構成】 a)化学線放射に曝露した時に酸を形成する化合物、b)該酸により開裂し得る少なくとも1個のC-O-CまたはC-O-Si結合を有する化合物、およびc)水に不溶であるが、アルカリ水溶液に可溶であるか、または少なくとも膨潤し得る重合状バインダーを含む放射線感応性混合物。化合物(a)は式I、IIまたはIIIである。例-1ビス (2,4-ジシアノフェニル)ベンゼン-1,3-ジスルホネート。例-2 2,5-ジクロロフェニルベンゾ[c][1,2,5]オキサジアゾール-4-スルホネート。【効果】 高解像度および広いスペクトル領域にわたり高感度で、熱安定性が高く、露光により腐食性の光分解生成物を形成しないポジ型放射線感応性混合物。およびフォトレジスト、電子部品、プリント回路基板またはケミカルミリング等に適したポジ型放射線感応性記録材料を提供する。
請求項(抜粋):
a)化学線放射線に曝露した時に酸を形成する化合物、b)前記酸により開裂し得る少なくとも1個のC-O-CまたはC-O-Si結合を含む化合物、およびc)水に不溶であるが、アルカリ水溶液に可溶であるか、または少なくとも膨潤し得る重合体状バインダーを含むポジ型放射線感応性混合物であって、化合物(a)が式I、IIまたはIII【化1】(式中、Sは、置換されていないか、または置換された、1〜20個の炭素原子を含む非環式、同素環式または複素環式基であり、EWGは電子求引性基であり、R1 は、置換されていないか、または置換された、1〜20個の炭素原子を含む非環式、同素環式または複素環式基であり、Aは、5〜7員の飽和または不飽和の同素環または複素環を形成するのに必要な残りの環構成員であり、複素環中のヘテロ原子は酸素、硫黄および/または非塩基性窒素原子であり、wおよびyは、互いに独立して、0、1または2であり、xは、式Iの化合物では1〜5の整数であり、式IIおよびIII の化合物では1〜3の整数であり、zは、式IIの化合物では1〜4の整数であり、式III の化合物では1〜3の整数である。)にしたがうことを特徴とする、放射線感応性混合物。
IPC (5件):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/029
, G03F 7/033
, H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (8件)
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特開平4-088348
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特開平3-223862
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特開平3-223864
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