プラズマ処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-048288
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263188
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【構成】プラズマ処理装置において、1ターンあるいは複数ターンのコイル3を処理室の石英あるいはアルミナセラミックス等の誘電体で構成された側壁部2に、コイル3の中心軸が処理室1内部に向くように複数配置し、コイル3に高周波電力を供給するよう構成した。【効果】処理室側壁部のプラズマの消失を抑制できるので、より均一なプラズマを生成することができるという効果がある。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、1ターンあるいは複数ターンのコイルを処理室の誘電体で構成された側壁部に、前記コイルの中心軸が前記処理室内部に向くように複数配置し、前記コイルに高周波電力を供給する高周波電源を接続したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/3065 , H01L 21/31 , H01Q 13/10

FI (3件)：

H01L 21/302 B , H01L 21/302 C , H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭64-057600
プラズマ処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-035518 出願人：松下電器産業株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-092511 出願人：東京エレクトロン株式会社

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