特許
J-GLOBAL ID:200903009857274639
露光装置
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (2件):
平木 祐輔 (外1名)
, 平木 祐輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-013280
公開番号(公開出願番号):特開2001-201863
出願日: 2000年01月21日
公開日(公表日): 2001年07月27日
要約:
【要約】【課題】 基板の裏側に回り込んだレジストによる基板の平面度悪化や基板載置面の汚染を防ぐ。【解決手段】 基板ホルダーの載置面に、走査方向に沿って一端から他端まで延びる一対の第1溝部31,32と、走査方向とほぼ直交する方向に沿って一端から他端まで延びる一対の第2溝部33,34とを形成する。第1溝部及び第2溝部の位置は、基板を縦あるいは横に置いたときに基板周辺部分が接触する位置に対応させる。基板の周辺部分にレジストの回り込みがあったとしても、それが溝部に入るため、基板の平面度の悪化と、基板ホルダーの基板載置面の汚染が防止される。
請求項(抜粋):
マスクのパターンを基板ホルダーの載置面に載置された基板に露光する露光装置において、前記基板ホルダーを載置して第1方向に移動可能な基板ステージを備え、前記基板ホルダーの前記載置面に、前記第1方向に沿って一端から他端まで延びる一対の第1溝部と、前記第1方向とほぼ直交する第2方向に沿って一端から他端まで延びる一対の第2溝部とが形成されていることを特徴とする露光装置。
IPC (2件):
G03F 7/20 501
, H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/20 501
, H01L 21/30 514 B
, H01L 21/30 515 G
Fターム (28件):
2H097AA03
, 2H097AB09
, 2H097JA01
, 2H097LA11
, 2H097LA12
, 5F046AA11
, 5F046BA05
, 5F046CA02
, 5F046CB05
, 5F046CB06
, 5F046CB08
, 5F046CB20
, 5F046CB23
, 5F046CB25
, 5F046CC01
, 5F046CC08
, 5F046CC10
, 5F046CD01
, 5F046CD05
, 5F046DA05
, 5F046DB14
, 5F046DC11
, 5F046DD06
, 5F046EA02
, 5F046EB01
, 5F046EB02
, 5F046ED01
, 5F046FC04
引用特許:
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