特許
J-GLOBAL ID:200903009882823612
インプリント用モールドの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-080548
公開番号(公開出願番号):特開2008-238502
出願日: 2007年03月27日
公開日(公表日): 2008年10月09日
要約:
【課題】残存する余分な離型剤および溶媒が少ないインプリント用モールドを、低環境負荷で、かつ低コストで製造できる方法を提供する。【解決手段】モールド本体12の表面に離型剤を塗布し、化学結合によって定着させて被覆層14を形成し、モールド10を得る工程と、モールド10を超臨界二酸化炭素で洗浄する工程とを有するインプリント用モールドの製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
モールド本体の表面に離型剤を塗布し、化学結合によって定着させて被覆層を形成し、モールドを得る工程と、
モールドを超臨界二酸化炭素で洗浄する工程と
を有する、インプリント用モールドの製造方法。
IPC (4件):
B29C 33/72
, B29C 33/38
, B29C 59/02
, H01L 21/027
FI (4件):
B29C33/72
, B29C33/38
, B29C59/02 B
, H01L21/30 502D
Fターム (19件):
4F202AF01
, 4F202AM10
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CB29
, 4F202CD30
, 4F202CK11
, 4F202CM82
, 4F202CM90
, 4F202CS02
, 4F209AJ01
, 4F209AJ08
, 4F209AJ11
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC20
, 4F209PQ11
, 4F209PQ14
, 5F046BA10
引用特許:
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