特許
J-GLOBAL ID:200903009882823612

インプリント用モールドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-080548
公開番号(公開出願番号):特開2008-238502
出願日: 2007年03月27日
公開日(公表日): 2008年10月09日
要約:
【課題】残存する余分な離型剤および溶媒が少ないインプリント用モールドを、低環境負荷で、かつ低コストで製造できる方法を提供する。【解決手段】モールド本体12の表面に離型剤を塗布し、化学結合によって定着させて被覆層14を形成し、モールド10を得る工程と、モールド10を超臨界二酸化炭素で洗浄する工程とを有するインプリント用モールドの製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
モールド本体の表面に離型剤を塗布し、化学結合によって定着させて被覆層を形成し、モールドを得る工程と、 モールドを超臨界二酸化炭素で洗浄する工程と を有する、インプリント用モールドの製造方法。
IPC (4件):
B29C 33/72 ,  B29C 33/38 ,  B29C 59/02 ,  H01L 21/027
FI (4件):
B29C33/72 ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D
Fターム (19件):
4F202AF01 ,  4F202AM10 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD30 ,  4F202CK11 ,  4F202CM82 ,  4F202CM90 ,  4F202CS02 ,  4F209AJ01 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ11 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC20 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ14 ,  5F046BA10
引用特許:
出願人引用 (1件)

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