特許
J-GLOBAL ID：200903009895452117

極端紫外光学素子用のキャッピング層

発明者：
マンデープ シング

マンデープ シング について

, 
ウーゴ マチュー フィサー

ウーゴ マチュー フィサー について


出願人/特許権者：
エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-195020
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059901
出願日： 2000年06月28日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：
【要約】【課題】 投影ビーム用に極端紫外放射線(EUV)を用いるリソグラフィ投影装置に使用するための、多層ミラーを有する光学素子、それも化学的、物理的侵害に対し、より高い耐性を有する光学素子を得ること。【解決手段】 多層EUVミラーが、ダイヤモンド様炭素(C)、窒化ホウ素(BN)、炭化ホウ素(B4C)、窒化ケイ素(Si3N4)、炭化ケイ素(SiC),B,Pd,Ru,Rh,Au,MgF2,LiF,C2F4,TiNを含む族、並びにそれらの化合物や合金から選択した材料からなる保護キャッピング層を備えている。
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置であって、放射投影ビームを供給する照明システム(LA,IL)と、マスク(MA)を保持するための第1対象ホルダを備えた第1対象テーブル(MT)と、基板(W)を保持する第2対象ホルダを備えた第2対象テーブルと、前記基板のターゲット部分(C)に前記マスクの照明部分を転写するための投影装置(PL)とを含むリソグラフィ投影装置において、前記投影ビームの放射線と等しい波長の放射線が入射する表面と、前記表面を被覆するキャッピング層とを有する少なくとも1つの光学素子であって、前記キャッピング層が不活性の材料で形成されている前記光学素子を特徴とする、リソグラフィ投影装置。
IPC (7件)：
G02B 1/10 ,  C03C 17/06 ,  C03C 17/22 ,  C03C 17/34 ,  C03C 17/36 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G02B 1/10 Z ,  C03C 17/06 Z ,  C03C 17/22 Z ,  C03C 17/34 Z ,  C03C 17/36 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 515 D
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM