特許

J-GLOBAL ID：200903082856626999

投影露光方法及び投影露光装置

発明者： 老泉 博昭 ,  伊東 昌昭 ,  小川 太郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-159964
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031718
出願日： 1994年07月12日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】解像度を向上させた投影露光方法を提供すること。【構成】X線源89からのビームを用い、照明光学素子である前置反射鏡901を介して、所望のパターンが描かれた反射型マスク81を照明し、このパターンを、凸面反射鏡92、凹面反射鏡91等の結像光学素子を介して、ウェハ82上に転写するときに、反射型マスク81上の多層膜2、凸面反射鏡92上の多層膜7、凹面反射鏡91上の多層膜7のいずれか1の多層膜が最大反射率を与える波長を他のそれと異なるようにすることにより、上記ビームの単色性を上げた投影露光方法。前置反射鏡901に多層膜が設けられていれば、これを他と異なるようにしてもよい。

請求項（抜粋）：

真空紫外線からX線の所望の領域に波長を持つビームを用いて、少なくとも1つの照明光学素子を介して、所望のパターンが描かれた光学素子を照明し、該パターンを、少なくとも1つの結像光学素子を介して、基板上に転写する投影露光方法において、上記照明光学素子、上記所望のパターンが描かれた光学素子及び上記結像光学素子からなる群から選ばれた少なくとも2つの光学素子により、上記ビームの単色性を上げたことを特徴とする投影露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 1/06

FI (2件)：

H01L 21/30 531 E ,  H01L 21/30 531 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-118914
  
• X線照射用光学系及びそれを用いたX線投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-085924   出願人：日本電信電話株式会社
• 特開平4-307923