特許
J-GLOBAL ID：200903009958786517
三次元光導波路用薄膜材料およびその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢葺 知之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-175882
公開番号（公開出願番号）：特開平9-026514
出願日： 1995年07月12日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：
【要約】【課題】 本発明は精度の高い三次元光導波路が簡単なプロセスで作製可能になる材料および方法を提供する。【解決手段】 カルボキシル基とオレフィン二重結合の両方を含む酸で化学修飾した金属アルコキシドと、ポリジメチルシロキサンから構成される無機・有機融合体材料に、三次元光導波路のパターンを刻んだフォトマスクを通して光エネルギーを当てる。光の当たった部分のみ、吸収した光エネルギーで無機・有機融合体材料の分子構造が変化するため、分子の分極率の変化、即ち材料の屈折率の変化が起きる。【効果】 無機・有機融合体材料中に、フォトマスクを利用した光照射という簡単なプロセスで、三次元光導波路を作製することができる。
請求項（抜粋）：
カルボキシル基とオレフィン二重結合の両方を含む酸で化学修飾した金属アルコキシドと、ポリジメチルシロキサンから構成される無機・有機融合体であることを特徴とする三次元光導波路用材料。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 N
, G02B 6/12 M
