水素および窒素含有ガス混合物の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：曾我道照 , 曾我道治 , 古川秀利 , 鈴木憲七 , 梶並順 , 醍醐美知子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-571397
公開番号（公開出願番号）：特表2004-529838
出願日： 2002年02月11日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

本発明は、水素および窒素含有ガス混合物を製造する方法に関し、ここで、水蒸気および炭素含有ガスの混合物は、少なくとも1つの水素輸送膜合成ガスおよびスイープガス発生器の未透過物側に供給され、上記ガス発生器において、上記ガスおよび水蒸気は合成ガスに変換される。上記合成ガス中の水素の一部は、上記膜を通って、上記発生器中の透過物側へ輸送され、上記透過物側で、上記水素の一部は、上記透過物側へ供給される空気流中の酸素と反応して、熱ならびに窒素および水蒸気含有ガスを生成する。上記合成ガスは、下流水素輸送膜ユニットまたは水素輸送膜反応器の未透過物側にさらに供給され、上記下流水素輸送膜ユニットまたは水素輸送膜反応器において、上記合成ガス中の水素の主要部分、および反応器が使用される場合には、上記反応器中の未透過物側で生成したさらなる水素の主要部分は、上記下流膜を通って輸送され、上記窒素含有ガスにより獲得されて、水素および窒素含有ガス混合物を形成する。さらに、本発明は、触媒または非触媒プロセスを実施する方法に関し、ここで請求項1ないし6に記載の方法により製造される水素および窒素含有ガス混合物は、上記方法における反応物の1つとして適用される。

請求項（抜粋）：

水素および窒素含有ガス混合物を製造する方法であって、水蒸気および炭素含有ガスの混合物が、少なくとも1つの水素輸送膜合成ガスおよびスイープガス発生器の未透過物側に供給され、該ガス発生器において、前記ガスおよび水蒸気は合成ガスに変換される工程と、前記合成ガス中の水素の一部は、該膜を通って、前記発生器中の透過物側へ輸送され、そこで、該水素の一部は、前記透過物側へ供給された空気流中の酸素と反応して、熱ならびに窒素および水蒸気含有ガスを生成する工程と、該合成ガスは、下流水素輸送膜ユニットまたは水素輸送膜反応器の未透過物側にさらに供給され、そこで、前記合成ガス中の水素の主要部分、および反応器が使用される場合には前記反応器中の未透過物側で生成したさらなる水素の主要部分は、前記下流膜を通って輸送され、前記窒素含有ガスにより獲得されて、水素および窒素含有ガス混合物を形成する工程と、を含むことを特徴とする方法。

IPC (2件)：

C01B3/38 , B01D53/22

FI (2件)：

C01B3/38 , B01D53/22

Fターム (16件)：

4D006GA41 , 4D006KA02 , 4D006KA51 , 4D006KA61 , 4D006KA72 , 4D006KB30 , 4D006MC02 , 4D006MC03 , 4D006PB20 , 4D006PB66 , 4D006PC80 , 4G140EA03 , 4G140EA06 , 4G140EB19 , 4G140EB37 , 4G140EB45

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭54-130484
特開昭54-157797
特開昭62-046901

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