特許
J-GLOBAL ID:200903080262960497

高純度COの製造方法及び製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 一平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-247318
公開番号(公開出願番号):特開2000-070655
出願日: 1998年09月01日
公開日(公表日): 2000年03月07日
要約:
【要約】【課題】 H2とCOを主成分とする合成ガス等の混合ガスからH2のみを完全に分離することができ、リサイクル工程無しで、99vol%以上の高純度なCOを得ることができる高純度COの製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】 H2とCOを主成分とする混合ガスから、ガス分離膜を用いてCOを分離精製することによるCOの製造方法であり、ガス分離膜がH2選択透過能を有する金属膜を用いる。混合ガスが導入される容器2と、容器2の内側に配設され、H2選択透過能を有する金属膜1で容器2の混合ガスから隔離されるように形成され、金属膜1の透過側において混合ガスの流れと対向流となるようにO2含有ガスを流すスイープガス流路4と、容器2に混合ガスを供給する入口部6と、混合ガスから分離・精製されたCOガスを容器2から取り出す出口部8とを備えるCO製造装置である。
請求項(抜粋):
H2とCOを主成分とする混合ガスから、ガス分離膜を用いてCOを分離精製することによるCOの製造方法であって、上記ガス分離膜が、H2選択透過能を有する金属膜であることを特徴とする高純度COの製造方法。
IPC (3件):
B01D 53/22 ,  B01D 71/02 500 ,  C01B 31/18
FI (3件):
B01D 53/22 ,  B01D 71/02 500 ,  C01B 31/18 B
Fターム (29件):
4D006GA41 ,  4D006HA28 ,  4D006KA17 ,  4D006KA64 ,  4D006KA72 ,  4D006KB30 ,  4D006KE02P ,  4D006KE02Q ,  4D006KE07Q ,  4D006KE13P ,  4D006KE16Q ,  4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MB06 ,  4D006MC02 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03 ,  4D006NA45 ,  4D006NA63 ,  4D006PA03 ,  4D006PA04 ,  4D006PB18 ,  4D006PB20 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67 ,  4D006PC80 ,  4G046JB06 ,  4G046JB12 ,  4G046JC07
引用特許:
審査官引用 (4件)
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