特許
J-GLOBAL ID:200903080262960497
高純度COの製造方法及び製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
渡邉 一平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-247318
公開番号(公開出願番号):特開2000-070655
出願日: 1998年09月01日
公開日(公表日): 2000年03月07日
要約:
【要約】【課題】 H2とCOを主成分とする合成ガス等の混合ガスからH2のみを完全に分離することができ、リサイクル工程無しで、99vol%以上の高純度なCOを得ることができる高純度COの製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】 H2とCOを主成分とする混合ガスから、ガス分離膜を用いてCOを分離精製することによるCOの製造方法であり、ガス分離膜がH2選択透過能を有する金属膜を用いる。混合ガスが導入される容器2と、容器2の内側に配設され、H2選択透過能を有する金属膜1で容器2の混合ガスから隔離されるように形成され、金属膜1の透過側において混合ガスの流れと対向流となるようにO2含有ガスを流すスイープガス流路4と、容器2に混合ガスを供給する入口部6と、混合ガスから分離・精製されたCOガスを容器2から取り出す出口部8とを備えるCO製造装置である。
請求項(抜粋):
H2とCOを主成分とする混合ガスから、ガス分離膜を用いてCOを分離精製することによるCOの製造方法であって、上記ガス分離膜が、H2選択透過能を有する金属膜であることを特徴とする高純度COの製造方法。
IPC (3件):
B01D 53/22
, B01D 71/02 500
, C01B 31/18
FI (3件):
B01D 53/22
, B01D 71/02 500
, C01B 31/18 B
Fターム (29件):
4D006GA41
, 4D006HA28
, 4D006KA17
, 4D006KA64
, 4D006KA72
, 4D006KB30
, 4D006KE02P
, 4D006KE02Q
, 4D006KE07Q
, 4D006KE13P
, 4D006KE16Q
, 4D006MA02
, 4D006MA06
, 4D006MB06
, 4D006MC02
, 4D006MC02X
, 4D006MC03
, 4D006NA45
, 4D006NA63
, 4D006PA03
, 4D006PA04
, 4D006PB18
, 4D006PB20
, 4D006PB66
, 4D006PB67
, 4D006PC80
, 4G046JB06
, 4G046JB12
, 4G046JC07
引用特許: